硅红外滤光片旨在降低直拉硅单晶氧含量，提高硅红外滤光片透过率的硅片热处理工艺。其特征是将硅片在400-1000℃温度间的四段温区逐步升温并保温适当时间并在硅片冷却至850℃以下时取出，处理后的直拉硅单晶片在9um处的透过率接近或达到区熔硅单晶的水平，用热处理后的廉价直拉硅单晶片制造的红外滤光片，可满足红外仪器设备所需红外滤光片的要求，大大降低了滤光片的成本。

    随着仪器仪表更新换代，特别是微电子技术引入仪表制造行业，使仪表可告性大大提高。仪器往往根据仪器定义和操作者设定的要求，对吸光度原始数据作计算处理，转换成所谓反应数据，再按系数或公式作浓度计算光源模拟滤光片的选择 。许多物质在受到光激发时，能受激发射长于激发波长的荧光。逆变电源。显微镜是由一个透镜或几个透镜的组合构成的一种光学仪器。u>2f，倒立缩小的实像 2f>v>f 照相机。截止滤光片长波通(在大于某一指定波长区间高透，小于这个波长的区域截止)短波通(在小于某一指定波长区间高透，带通滤光片(大于这个波长的区域截止)宽带(一般认为带宽超过20%的中心波长时为宽带带通滤光片)窄带(低于15%的中心波长时称为窄带带通滤光片)但宽和窄没有严格的界限。聚光镜旋开后严禁进一步分解其上透镜。

    　　硅红外滤光片的热处理工艺，包括硅片的切、磨、抛光和腐蚀清洗及热处理用石英炉管的HCl处理，它的特征在于：1.在炉温低于400℃时，装入硅片，2.将炉温升至400-550℃，保温10-30小时;然后升温至700-800℃，保温10-30小时，再升温至800-900℃，保温2-5小时，最后升温至900-1000℃，保温2-5小时，3.在炉温降至850℃以下时，取出硅片。