深圳市赓旭光电科技有限公司是一家专业从事光学镀膜的一家专业从事光学镀膜的高新技术企业，拥有当前先进的光学镀膜机，离子源辅助镀膜设备。主要从事 UV镜、镜头滤镜、CPL偏振片、PMMA、PC、PET、PVC，镀膜加工（单层增透膜、多层增膜、分光膜、高反膜、透面镜加工、平面球、滤光片、滤色片、高反镜、分光镜、增透镜、棱镜、红、蓝、绿、黄、宝石蓝等彩膜；防水膜、防指纹膜、超硬膜、导电膜、非导电膜等功能膜）。产品广泛用于：光学器件及手机，树脂镜片，两用型汽车后视镜片、数码相机、家电等各种电子数码产品。可以为UV镜、手机镜头、手提电脑镜头、各类VGA摄像，高像素镜头、玻璃镜片、玻璃工艺品等进行专业的镀膜。
公司实力雄厚，拥有1200余平方米的万级净化车间，高薪聘请业内高级研发设计人才多名，高素质的管理人员和经验丰富的生产员工，工艺成熟、管理有序、日产量达万余片。公司严格遵循IS09001的各项标准指导生产，建立了一套完整的质量管理体系。从原料采购到产品出厂都一丝不苟，环环相扣。
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公司成长迅速，规模不断扩大，与珠三角地区的众多光学器件生产厂家建立了长期稳定的合作关系，客户遍及光电、电子、数码、通讯、汽车、家电等多个领域。凭着对未来的不懈追求，始终以高端的品质、优惠的价格、准确的交期、完善的售后，竭诚为广大客户服务！热忱欢迎各界人士前来我公司参观、考察、洽谈业务，合作共赢！
真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜在今日的发展有很多长处：对环境无污染，是绿色环保生产工艺；对操作者和使用者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀，使用寿命长。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜（包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术）、溅射镀膜（包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术），这些方法统称物理气相沉积（Physical Vapor Deposition），简称为PVD。与之对应的化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition）简称为CVD技术。行业内通常所说的“IP”（ion plating）离子镀膜，是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作用，而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。
在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子分别以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。
